Open AccessВЛИЯНИЕ ВРЕМЕНИ ОБЛУЧЕНИЯ УЛЬТРАФИОЛЕТОВЫМ ЛАЗЕРОМ ВЫСОКОЙ ПЛОТНОСТИ МОЩНОСТИ НА СПЕКТР И ИНТЕНСИВНОСТЬ ЛЮМИНЕСЦЕНЦИИ НАНОЧАСТИЦ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ
Author(s) -
З.Ш. Шаймарданов,
С.С. Курбанов,
Ш.З. Уролов,
Р.Р. Жалолов
Publication year - 2019
Publication title -
uzbek journal of physics
Language(s) - Russian
Resource type - Journals
ISSN - 2181-077X
DOI - 10.52304/.v22i1.175
Subject(s) - computer science
Под воздействием излучения N2-лазера в образцах наноразмерных частиц SiO2, спрессованных в форме таблетки, обнаружена люминесценция, спектр которой представляет собой широкую полосу с максимумом при ~460 нм. Интенсивность люминесценции зависит от продолжительности облучения, с течением времени интенсивность люминесценции монотонно уменьшается и устанавливается на определенном уровне. Предполагается, что под воздействием высокоинтенсивного УФ излучения создаются новые центры поглощения на поверхности наночастиц SiO2 и за счет поглощения части УФ излучения в этих центрах происходит уменьшение интенсивности люминесценции.