Farklı Besi Ortamları, Aşılam Yöntemleri Ve Sıcaklıkların Shii-Take Mantarında Misel Gelişimi Üzerine Etkileri

Bu çalışma in-vitro koşullarda 2 farklı besi ortamında [patates dekstroz agar (PDA) ve malt ekstrakt agar (MEA)]  ve 5 farklı sıcaklıkta (10, 15, 20, 25 ve 30°C) shii-take mantar (Lentinula edodes) miselinin gelişim süresi ve hızını belirlemek amacıyla yürütülmüştür. Araştırmada kullanılan tohumluk miseller Atatürk Bahçe Kültürleri Merkez Araştırma Enstitüsü Müdürlüğü (Yalova)’ndan, klon olarak kullanılan anaçlık mantar AgroMantar (Denizli)’den temin edilmiştir. Hazırlanan MEA (48 g/L) ve PDA (39 g/L) besi ortamları 121°C’de 20 dk otoklavlandıktan sonra ılıkken steril kabin içerisinde UV ışık altında petri kaplarına doldurulmuş ve soğumaya bırakılmıştır. Anaçlık özellikteki shii-take mantarı alkolle dezenfekte edildikten sonra klonlar alınmış, tohumluk misellerden ise tek dane alınarak petri kaplarında besi ortamları üzerine yerleştirilmiş ve petri kapları parafilm ile kapatılmıştır. Her konudan 15 adet petri kabı hazırlanmış ve petriler konusuna uygun sıcaklıkta inkübatöre yerleştirilmiştir. Düzenli olarak farklı iki noktadan günlük misel uzunlukları ölçülmüş; petri kapları miseller ile tam sarıldığında ölçümler bitirilmiştir. Elde edilen verilerden misel gelişim süresi (gün) ve hızı (mm/gün) hesaplanmıştır. Uygulamaların teksel, ikili ve üçlü interaksiyonları misel gelişimini istatistiksel önem derecesinde etkilemiştir. Kullanılan besi ortamları içerisinde MEA, PDA’ya göre, dane misel aşılaması doku aşılamasına göre, 25°C diğer sıcaklık derecelerine göre daha kısa sürede daha hızlı misel gelişimi sağlamıştır. Araştırma sonuçlarına göre 25°C x MEA x dane misel aşılaması shii-take mantar miseli üretiminde uygun bulunmuştur.