CONDICIONES ÓPTIMAS PARA OXIDAR FENOL EN AGUA VÍA LOS PROCESOS FENTON Y FOTO-FENTON | Zendy

H. López | Zendy; Glaucilene Lopes | Zendy; C. E. Flores Barreda | Zendy; Patricia Araujo Pantoja | Zendy; André Teixeira | Zendy

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CONDICIONES ÓPTIMAS PARA OXIDAR FENOL EN AGUA VÍA LOS PROCESOS FENTON Y FOTO-FENTON

Author(s) -

H. López,

Glaucilene Lopes,

C. E. Flores Barreda,

Patricia Araujo Pantoja,

André Teixeira

Publication year - 2017

Publication title -

revista de la sociedad química del perú

Language(s) - Spanish

Resource type - Journals

eISSN - 2309-8740

pISSN - 1810-634X

DOI - 10.37761/rsqp.v83i4.216

Subject(s) - humanities , chemistry , physics , philosophy

Fenol puede ser degradado a casi 100 % en pocos minutos vía los procesos Fenton y fotoFenton. Su degradación y la relación entre las concentraciones molares iniciales de oxidante y catalizador utilizadas aumentan en sentidos inversos, y una relación de 38,4 fue óptima para soluciones acuosas contaminadas con 20 ppm de fenol. Asimismo, el uso de luz ultravioleta del tipo A aumentó la degradación comparado a menores longitudes de onda.

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