z-logo
open-access-imgOpen Access
Наногетероэпитаксиальные структуры HgCdTe. Рост, квантовые эффекты и приборы / Якушев М.В., Варавин В.С., Васильев В.В., Дворецкий С.А., Михайлов Н.Н., Сабинина И.В., Сидоров Г.Ю., Сидоров Ю.Г., Латышев А.В.
Publication year - 2019
Publication title -
тезисы докладов xiv российской конференции по физике полупроводников «полупроводники-2019»
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/semicond2019-71
Subject(s) - cadmium telluride photovoltaics , semiconductor materials , chemistry , materials science , optoelectronics , semiconductor
В настоящее время твердые растворы Hg1-xCdxTe (кадмий-ртуть-теллур, КРТ) занимаютлидирующее положение среди материалов, на основе которых разрабатываются инфракрасныефотоэлектрические детекторы излучения. Благодаря тому, что HgTe обладает инвертированной зоннойструктурой или, иначе, «отрицательной» шириной запрещенной зоны, в твердом растворе Hg1-xCdxTeможно получить произвольную ширину запрещенной зоны от 0 до 1.6 эВ и настроить детектор навыбранное окно прозрачности атмосферы. Гетероструктуры с квантовыми ямами (КЯ) на основеHgTe/CdTe предоставляют возможность управлять энергией межзонных переходов и спектром носителейза счет регулировки ширины ямы. При некотором критическом значении ширины квантовой ямы,зависящем от состава твердого раствора в яме и барьерных слоях ширина запрещенной зоны обращается вноль. Спектр носителей при этом становится «графеноподобным», т.е. наблюдается линейный закондисперсии как для электронов, так и для дырок.В ИФП СО РАН разработано и изготовлено уникальное российское оборудование для выращиванияКРТ методом МЛЭ. Проведены комплексные исследования всех этапов выращиваниягетероэпитаксиальных структур CdTe и CdHgTe на подложках из арсенида галлия и кремния ориентацией(013) диаметром до 100 мм. Исследованы механизмы формирования гетеропереходов АIIВVI/GaAs иАIIВVI/Si и кинетика роста слоев CdZnTe и CdHgTe на высокоиндексных поверхностях. В результатеразработана технология, позволяющая создавать на альтернативных подложках нелегированные илегированные In пленки CdHgTe с низкой плотностью морфологических и структурных дефектов.На полученных структурах изготовлены матричные фотоприемники различного формата надиапазоны длин волн 1-3, 3-5 и 8-14 мкм, работающие как при 77K, так и повышенных температурах, спараметрами не уступающими зарубежным аналогам. Впервые изготовлен фотоприемник формата2000×2000 элементов для средневолнового спектрального диапазона.Разработана технология выращивания Hg1-xCdxTe/HgTe/Hg1-xCdxTe квантовых ям (КЯ) методоммолекулярно-лучевой эпитаксии с прецизионным контролем толщины нанослоев HgTe и широкозонныхспейсеров и состава (x) эллипсометрическим методом.В одиночных HgTe КЯ показано существование двумерного электроного газа с высокойподвижностью более 5×105 см/В×с. При низком уровне легирования КЯ впервые обнаружен новыйэлектронно-дырочный газа без пространственного разделения носителей. Проведены исследования поизучению свойств с 2D и 3D топологическими состояниями. Обнаружено, что ширина щели прикритической температуре Тс = 90 К обращается в нуль, что соответствует возникновению безмассовыхдираковских фермионов вблизи Γ точки зоны Бриллюэна. Полученные данные открывают большое поледеятельности для исследования новых физических явления.В одиночных и множественных (до 30) Hg1-xCdxTe/HgTe/Hg1-xCdxTe КЯ наблюдался большойфотогальванический эффект для линейно- и циркулярно-поляризованного излучения в диапазоне от 6 мкмдо 400 мкм при комнатной температуре. Вольтовая чувствительность для одиночной HgTe КЯ достигаетвеличины, соответствующей детекторам на фотонном увлечении (photon drag effect).На структурах с множественными HgTe КЯ (от 5 до 10), встроенными в широкозоннуюволноводную часть наблюдалось стимулированное излучение в зависимости от толщины КЯ в области от2,8 до 20 мкм при температурах 20 К и в области от 3 до 5 мкм при температурах вблизи комнатной.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom