z-logo
open-access-imgOpen Access
600-ваттные лазерные линейки на основе гетероструктур с напряженными квантовыми ямами InAlGaAs и GaAsP спектрального диапазона 800-820 нм / Ладугин М.А., Багаев Т.А., Мармалюк А.А., Лобинцов А.В., Данилов А.И., Сапожников С.М., Симаков В.А.
Publication year - 2019
Publication title -
тезисы докладов xiv российской конференции по физике полупроводников «полупроводники-2019»
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/semicond2019-450
Subject(s) - materials science
Высокомощные лазерные линейки и решетки, работающие в ближнем ИК-диапазоне,чрезвычайно актуальны во многих практических задачах, а именно, в накачке активных средтвердотельных лазеров, дальнометрии, полиграфии и медицине. Безусловно, это требует созданияприборов с улучшенными выходными характеристиками - высокой оптической мощностью идлительным сроком службы - что проводит к необходимости дальнейшего совершенствованияконструкции и технологии получения полупроводниковых гетероструктур.В данной работе с целью дальнейшего улучшения выходных параметров лазерных линеек былипроведены комплексные исследования излучательных характеристик согласованных и напряженныхквантоворазмерных структур спектрального диапазона 800-820 нм. Объектами исследования, помимоклассических одиночных квантовых ям на основе AlGaAs, были квантовые ямы GaAsP снапряжениями растяжения (–0.4÷0.5%) и квантовые ямы InAlGaAs с напряжениями сжатия(+0.4÷0.5%), окруженные барьерными слоями широкозонного Al0,4Ga0,6As.Указанные гетероструктуры были получены в условиях метода МОС-гидридной эпитаксии вгоризонтальном кварцевом реакторе на подложках арсенида галлия ориентации (100). Оптимизациярежимов получения (температуры, давления и скорости роста, а также отношения V/III) позволилазаметно увеличить интенсивность фотолюминесценции и уменьшить полуширину спектра для всехисследованных конструкций гетероструктур. Представлены результаты сравнения, обсужденытехнологические и конструктивные преимущества и недостатки каждой из предложенных структур.Особое внимание при проектировании лазерной структуры уделялось профильному легированию рслоев с целью минимизации внутренних оптических потерь и последовательного электрическогосопротивления.Используя полученные данные были выращены эпитаксиальные гетероструктуры иизготовлены на их основе линейки лазерных диодов с длиной резонатора 1.5 мм, собранные намедный теплоотвод через компенсатор. Измерения проводились в квазинепрерывном режименакачки (200 мкс, 20 Гц), в результате которых проанализированы и обсуждены электрические,мощностные и спектральные параметры приборов. По сравнению с традиционными лазернымигетероструктурами с согласованной квантовой ямой, предложенные конструкции на основеGaAsP/AlGaAs и InAlGaAs/AlGaAs позволили снизить пороговый ток, увеличить внешнююдифференциальную эффективность и повысить предельные выходные оптические мощности с 440-500 Вт до 560-600 Вт.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom