z-logo
open-access-imgOpen Access
Микрофотолюминесценция структурных дефектов в плёнках CdTe/GaAs и CdTe/Si для КРТ подложек / Николаев С.Н., Кривобок В.С., Онищенко Е.Е., Пручкина А.А., Ченцов С.И.
Publication year - 2019
Publication title -
тезисы докладов xiv российской конференции по физике полупроводников «полупроводники-2019»
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/semicond2019-343
Subject(s) - cadmium telluride photovoltaics , materials science , optoelectronics
В работе исследовананизкотемпературная микрофотолюминесценция (МФЛ) пленокCdTe/(103)Si и CdTe/(103)GaAsтолщиной 5.5 мкм, используемых вкачестве виртуальных подложек дляКРТ. В спектрах излучения пленокдоминировало излучение протяженных дефектов, см. рис. 1A. Суменьшением плотностивозбуждения (< 15 мВт/см2) итемпературы (< 10-15 К) широкиеполосы дислокационнойлюминесценциитрансформировались в наборыспектрально узких пиков, которыемогут быть интерпретированы какизолированные (квантовые)излучатели, сформированныефрагментами ядер дислокаций, смрис. 1B. Характернымиособенностями таких излучателейявляются малая спектральнаяширина линии, высокая степеньлинейной поляризации и слабаясвязь с решеткой CdTe черезфрелиховский механизм электронфононного взаимодействия.Перечисленные особенности излучателей, связанных с протяженными дефектами, позволяютвыделять их на фоне остальных механизмов примесно-дефектной люминесценции. Статистическийанализ пространственного распределения сигнала МФЛ и поляризации излучателей позволил установить принципиальные отличия протяженных дефектов в пленках CdTeвыращенных на Si и GaAs подложках. Показано, что в пленках CdTe/Si дислокационные ядрапривязаны к одному выделенному направлению, совпадающему с проекцией одного из направленийсемейства на плоскость поверхности [103]. Это направление совпадает с направлениемраспространения частичных 90° дислокаций Шокли, таким образом, подтверждая связь главнойлинии дислокационного излучения с частичными дислокациями. В CdTe/GaAs, в отличие от CdTe/Si,отсутствует выделенное направление в пространственной ориентации дислокаций. Так как наличиевыделенного направления неизбежно связано с существованием макроскопических деформационныхи/или электрических полей, полученные данные могут объяснять ухудшение свойств КРТ слоя приего росте на CdTe/Si подложке.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom