z-logo
open-access-imgOpen Access
Управление электронной локализацией за счет деформационных полей в группах Ge/Si квантовых точек / Зиновьева А.Ф., Зиновьев В.А., Ненашев А.В., Кулик Л.В., Двуреченский А.В.
Publication year - 2019
Publication title -
тезисы докладов xiv российской конференции по физике полупроводников «полупроводники-2019»
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/semicond2019-290
Subject(s) - materials science , crystallography , chemistry
Новые тенденции в электронике требуют создания полупроводниковых наноструктур сконтролируемыми оптическими и спиновыми свойствами. Одной из перспективных систем дляманипулирования электронной структурой является система с Ge/Si квантовыми точками (КТ),создаваемыми за счет самоорганизации в процессе молекулярно-лучевой эпитаксии. Здесь электронылокализуются за счет деформаций в потенциальных ямах в Si вблизи КТ. Меняя пространственнуюконфигурацию КT, их размер, форму, взаимноерасположение, можно контролироватьраспределение деформаций, и соответственноэнергетический спектр электронов.В данной работе были разработаны исозданы специальные структуры с Ge/Si КТ,позволяющие реализовать одновременнуюлокализацию электронов в разных Δ долинах вупорядоченной группе КТ [1]. Электроны имеютразную пространственную локализацию (одинлокализован на вершине КТ, а другой на одном изребер основания КТ), характеризуются разными gфакторами и могут рассматриваться как паракубитов, связанных постоянным обменнымвзаимодействием. Структуры представляют собойкомбинацию (~200 нм) больших дискообразныхКТ (нанодисков) и групп КТ меньшего размера(~30 нм), выращенных на расстоянии 35 нм от слоя нанодисков. Для увеличения деформаций и,соответственно, энергии связи электронов на КТ, были выращены 4-слойные стеки упорядоченныхгрупп КТ с различным расстоянием между слоями КТ в стеке d. Для локализации электронов вбоковых Δx,y долинах было использовано расстояние d=3 нм. Для одновременной локализацииэлектронов в разных Δ долинах была создана структура с варьируемым расстояние d в стеке: между2-м и 3-м слоем КТ d=5 нм, остальные прослойки имели толщину d=3 нм. Локализация электроновбыла исследована методом ЭПР. Интерпретация результатов ЭПР была проведена на основе анализазначений g-факторов и их ориентационных зависимостей и сопоставления с результатамивычислений энергетического спектра и волновых функций электронов. Расчеты проводились сучетом элементного состава КТ и реальной геометрии нанообъектов. Получено, что деформационноеполе нанодиска играет ключевую роль в реализации одновременной локализации электронов вразных Δ долинах, позволяя регулировать положение энергетических уровней электронов.Полученные результаты могут лечь в основу создания базовых элементов для квантовых вычисленийна основе структур с Ge/Si КТ.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom