z-logo
open-access-imgOpen Access
Диффузия атомов водорода в пленках Si, выращенных из молекулярных пучков на диэлектрических слоях Si3N4 и SiO2 / Чиж К.В., Арапкина Л.В., Ставровский Д.Б., Уваров О.В., Гайдук П.И., Юрьев В.А.
Publication year - 2019
Publication title -
тезисы докладов xiv российской конференции по физике полупроводников «полупроводники-2019»
Language(s) - Uncategorized
DOI - 10.34077/semicond2019-137
Subject(s) - silicon nitride , materials science , silicon , crystallography , chemistry , optoelectronics

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom