GaAs/AlGaAs и InGaAs/AlGaAs гетероструктуры для полупроводниковых инфракрасных излучателей
Author(s) -
Д.В. Гуляев,
Д.В. Дмитриев,
Д.Ю. Протасов
Publication year - 2021
Publication title -
фотоника-2021 : тезисы докладов российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/rcsp2021-93
Subject(s) - gallium arsenide , optoelectronics , materials science
В данной статье мы приводим результаты работы по получению методом молекулярно-лучевойэпитаксии гетероструктур с квантовыми ямами (КЯ) GaAs/AlGaAs и InGaAs/AlGaAs, предназначенныхдля создания на их основе светодиодов для работы в ближнем ИК диапазоне. Исследовано влияниеростовых условий гетероструктур, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии и постростового отжига на квантовый выход гетероструктур. Внутренний квантовый выход был определениз люминесцентных данных в рамках стандартной ABC модели, учитывающей излучательнуюрекомбинацию, безызлучательную рекомбинацию Шокли-Рида и Оже-рекомбинаци [1].Дополнительно квантовый выход был оценен из сравнения интенсивностей ФЛ образцов с ФЛрадомина 6G, обладающим на длине волны 527 нм квантовым выходом около 96%. Полученныеданные с точностью до нескольких процентов совпали с данными, полученными из анализамощностной зависимости ФЛ.
Accelerating Research
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom
Address
John Eccles HouseRobert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom