Влияние ориентации поверхности на характеристики высокотемпературных отжигов подложек арсенида галлия | Zendy

Н. Л. Шварц | Zendy; А. А. Спирина | Zendy

AI Assistant Blog Pricing

Home ZAIA Blog

Open Access

Влияние ориентации поверхности на характеристики высокотемпературных отжигов подложек арсенида галлия

Author(s) -

Н. Л. Шварц,

А. А. Спирина

Publication year - 2021

Publication title -

фотоника-2021 : тезисы докладов российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники

Language(s) - Russian

DOI - 10.34077/rcsp2021-71

Subject(s) - materials science

В работе представлены результаты Монте-Карло моделирования ленгмюровскогоиспарения подложек арсенида галлия. Анализировалось влияние ориентации поверхностиподложек на характеристики неравновесных высокотемпературных отжигов.Рассматривались сингулярные и вицинальные поверхности GaAs(111)A и GaAs(111)В сразными углами разориентации. Моделирование осуществлялось в температурном диапазоне700 – 1000 K, включающем температуры конгруэнтного испарения Тс подложек с разнымуглом отклонения.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.

Having issues? You can contact us here

Accelerating Research