Open AccessВлияние ориентации поверхности на характеристики высокотемпературных отжигов подложек арсенида галлия
Author(s) -
Н. Л. Шварц,
А. А. Спирина
Publication year - 2021
Publication title -
фотоника-2021 : тезисы докладов российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/rcsp2021-71
Subject(s) - materials science
В работе представлены результаты Монте-Карло моделирования ленгмюровскогоиспарения подложек арсенида галлия. Анализировалось влияние ориентации поверхностиподложек на характеристики неравновесных высокотемпературных отжигов.Рассматривались сингулярные и вицинальные поверхности GaAs(111)A и GaAs(111)В сразными углами разориентации. Моделирование осуществлялось в температурном диапазоне700 – 1000 K, включающем температуры конгруэнтного испарения Тс подложек с разнымуглом отклонения.