z-logo
open-access-imgOpen Access
Моделирование особенностей эпитаксиального формирования 2D- и 3D-островков с учетом изменения физических параметров двумерных пленок с толщиной
Author(s) -
К. А. Лозовой,
В. В. Дирко,
А. П. Коханенко
Publication year - 2021
Publication title -
фотоника-2021 : тезисы докладов российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/rcsp2021-64
Subject(s) - computer science
В данной работе рассматривается эпитаксиальное выращивание напряженных двумерных слоевгермания и твердого раствора германия-кремния различного состава, а также особенностиформирования квантовых точек в этих системах. Проводится теоретическое рассмотрение влияниязависимости поверхностных энергий и упругих напряжений от толщины осажденного материалана формирование двумерных слоев и квантовых точек по механизму Странского–Крастанова. Помимоэтого, произведено моделирование миграции адатомов и формирования островков методоммолекулярной динамики.Рассматриваются различные стадии формирования двумерного слоя толщиной от одного донескольких монослоев, а также появления двумерных и трехмерных островков. Особое вниманиеуделяется установлению возможностей преодоления нуклеации островков и предотвращениянежелательного перехода от двумерного к трехмерному росту при выращивании 2D-материалов.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom