Исследование температурной зависимости границ спектральной характеристики чувствительности фотомодулей на основе КРТ
Author(s) -
В.С. Ковшов,
А.В. Никонов,
К.О. Болтарь
Publication year - 2021
Publication title -
фотоника-2021 : тезисы докладов российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/rcsp2021-141
Subject(s) - computer science
Повышение требований к тактико-техническим характеристикам оптико-электронных систем ИКдиапазона, наблюдаемое в последнее десятилетие, является катализатором для непрерывногосовершенствования и оптимизации технологии изготовления современных фотоприемных устройств.Особые требования предъявляются в первую очередь к полупроводниковым материалам исоединениям на их основе, используемым для изготовления фоточувствительных элементов.Фотомодули на основе гетероэпитаксиальных структур тройных соединений кадмий-ртуть-теллур(КРТ) стабильно занимают широкую область рынка изделий фотоэлектроники [1, 2]. Вместе с тем,перед разработчиками стоит вопрос совершенствования технологии изготовления таких фотомодулей.
Accelerating Research
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom
Address
John Eccles HouseRobert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom