z-logo
open-access-imgOpen Access
Радиационные донорные дефекты в имплантированных As МЛЭ пленках Cd0.3Hg0.7Te: накопление и отжиг
Author(s) -
А.Г. Коротаев,
И.И. Ижнин,
А.В. Войцеховский
Publication year - 2021
Publication title -
фотоника-2021 : тезисы докладов российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/rcsp2021-140
Subject(s) - cadmium telluride photovoltaics , materials science , optoelectronics , crystallography , chemistry
В работе представлены результаты исследований процессов накопления радиационных донорныхдефектов и их отжига в подвергнутых ионной имплантации (ИИ) мышьяком (As)гетероэпитаксиальных пленках CdxHg1-xTe (ГЭС КРТ) с составом активной области ха~0.3 и ихсравнение с ранее проведенными аналогичными исследованиями для пленок с ха~0.22 [1]. Дляисследований использовали номинально нелегированные ГЭС КРТ, выращенные молекулярнолучевой эпитаксией (МЛЭ) на подложках GaAs (#1, #3, #4) или Si (#2) с ориентацией (013) с буфернымслоем ZnTe/CdTe.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom