Установление типов переходов, ответственных за фиолетовую полосу фотолюминесценции в сильно легированном AlN:Si
Author(s) -
I. V. Osinnykh,
Т. В. Малин,
Д.С. Милахин
Publication year - 2021
Publication title -
фотоника-2021 : тезисы докладов российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/rcsp2021-121
Subject(s) - materials science
В настоящей работе представлены результаты экспериментального исследованияфотолюминесценции серий сильнолегированных слоев AlN, выращенных методом молекулярнолучевой эпитаксии на сапфировых подложках, концентрация атомов кремния (NSi) составляла1.11020 см-3. При измерении ФЛ в диапазоне температур 300-1000 К использовалось возбуждение 4-ой гармоникой импульсного Nd:YLF лазера (λ=263 нм, мощность 1 мВт, длительность импульса 7 нс).При измерении ФЛ в широком диапазоне генерации носителей заряда использовалась возбуждение 4-ой гармоникой стационарного YAG лазера (λ=266 нм), максимальная мощность составляла 65 мВт.
Accelerating Research
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom
Address
John Eccles HouseRobert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom