Структурные и оптические свойства многослойных периодических структур с псевдоморфными слоями GeSiSn

В работе изучен рост многослойных периодических структур и сверхрешеток, включающихупругонапряженные слои GeSiSn с содержанием олова от 0 до 18 %. Установлена кинетическаядиаграмма роста слоев GeSiSn с высоким содержанием Sn в диапазоне температур 100 – 300 °C. Наоснове кинетических диаграмм роста пленок GeSiSn выбиралась область толщин, соответствующаяпсевдоморфному состоянию. В процессе роста кремния поверх слоев GeSiSn наблюдались различныесверхструктуры в зависимости от содержания олова в слое твердого раствора и температурыосаждения кремния в многослойной периодической структуре. Эти сверхструктуры соответствуютопределенному покрытию олова. Методом рентгеновской дифрактометрии изучены напряженноесостояние, состав, качество гетерограниц и термическая стабильность многослойных периодическихструктур.