z-logo
open-access-imgOpen Access
Моделирование структурного политипизма в нанопроволоках GaAs на базе решеточной модели
Author(s) -
А.Г. Настовьяк,
Н.Л. Шварц
Publication year - 2021
Publication title -
фотоника-2021 : тезисы докладов российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/rcsp2021-102
Subject(s) - materials science , optoelectronics
Настоящая работа посвящена моделированию роста различных кристаллических фаз в процессеформирования НП GaAs по механизму пар-жидкость-кристалл. Моделирование проводилось на основерешеточной модели. Каждый узел мог быть либо свободен, либо занят частицей. С частицами моглипроисходить различные события: акты адсорбции, десорбции, диффузии и химические превращения.Вероятность этих событий и их последовательность задаются энергиями активации, которые являютсявходными параметрами модели. Начальная морфология модельной системы выглядела следующимобразом: прямоугольная подложка GaAs размером 35×40 нм с ориентацией (111)B была покрыта слоеммаски различной толщины с круглым отверстием в центре, в котором была размещена капля галлия.При осаждении на подложку атомов Ga и молекул As2 под каплей начиналась кристаллизация арсенидагаллия. Это происходило за счет растворения осаждаемого вещества в капле и кристаллизации под нейна границе раздела жидкость-кристалл.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom