z-logo
open-access-imgOpen Access
Экспериментальное определение уровней размерного квантования в структурах на основе квантовых ям твердых растворов CdxHg1-xTe
Publication year - 2019
Publication title -
тезисы докладов российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «фотоника-2019»
Language(s) - Russian
DOI - 10.34077/rcsp2019-50
Subject(s) - in situ , materials science , physics , chemistry , meteorology
Перспективный материал на основе множественных квантовых ям (КЯ) твердых растворовCdxHg1-xTe может использоваться для создания как источников стимулированного излучения, так ифотоприемников, работающих в средневолновой и длинноволновой области ИК диапазона. Методмолекулярно-лучевой эпитаксии с in situ эллипсометрическим контролем позволяет воспроизводимовыращивать такие структуры. С использованием метода “эффективной” подложки можновосстановить профиль распределения состава в квантовых ямах. Однако определение уровнейразмерного квантования, которые определяют оптические и электрофизические свойства такихструктур до сих пор остается не решенной задачейВ работе предложены методики определенияположения уровней размерного квантования вмножественных КЯ, основанные на измеренииспектров оптического поглощения D()=lg(1/(T+R)) испектров продольной фотопроводимости F() вдиапазоне температур Т=77 298К.В качестве примера на рис. 1а показано оптическоепоглощение для структуры с 10-ю КЯ с толщиной 9,4нм (Хобкладки=0,65 хям0,05). Видно, что с возрастаниемэнергии оптическая плотность имеет ступеньки, чтоопределяется положением квантовых уровней,которые зависят от толщины КЯ. Аналогичнаякартина наблюдается и для спектровфотопроводимости.На рис.1б показаны спектры F(Т) при двухтемпературах и их отношение F(-120С)/F(-140С),позволяющее определять положение уровней безвлияния интерференции. На рис.1с показаносмещение этих уровней с температурой.Приводятся зависимости энергетическогоположения уровней для широкого набора HgTe КЯ столщинами от 2,7 до 11 нм при Т=77К и Т=298К.Показано, что зависимость от толщины носитхарактер Е 1/d. Так же представлены результатыдля КЯ с мольным содержанием теллурида кадмияХ≈0÷0.3. Экпериментальные данные показывают, чтоположение уровней определяется как энергетическимбарьером между ямами (Хобкладки) и толщиной ям d, таки мольным содержанием теллурида кадмия в ямах хямы.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom