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Projeto de um OTA Baseado em Inversores em Processo CMOS de 130 nm
Author(s) -
Otávio Soares Silva,
Rodrigo Aparecido da Silva Braga,
Dean Bicudo Karolak,
Paulo Marcio Moreira e Silva
Publication year - 2020
Publication title -
research, society and development
Language(s) - Portuguese
Resource type - Journals
ISSN - 2525-3409
DOI - 10.33448/rsd-v9i6.3334
Subject(s) - physics , pmos logic , nmos logic , humanities , materials science , art , transistor , quantum mechanics , voltage
Nos processos de fabricação de amplificadores diferenciais integrados uma característica inerente é que os transistores nMOS e pMOS construídos possuam diferenças físicas em relação aos valores projetados, efeito conhecido como descasamento. Neste trabalho será avaliado o impacto que os processos de fabricação infligem em um amplificador operacional de transcondutância construído com transistores com canal uniformemente dopado e baixa tensão de threshold e transistores de canal uniformemente dopado com tensão de threshold regular utilizando uma pesquisa experimental quantitativa.

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