
MATHEMATICAL MODELING OF THE ELECTRODEPOSITION PROCESS OF BISMUTH-SELENIUM SYSTEM
Author(s) -
S.P. Javadova,
V.A. Majidzade,
G.S. Aliyev,
A.M. Aliyev,
Д. Б. Тагиев
Publication year - 2021
Publication title -
kimya problemləri
Language(s) - Russian
Resource type - Journals
eISSN - 2522-1655
pISSN - 2221-8688
DOI - 10.32737/2221-8688-2021-1-47-55
Subject(s) - bismuth , selenium , process (computing) , computer science , materials science , metallurgy , operating system
Данная работа посвящена изучению математической модели для оптимизации процесса получения тонких пленок Bi-Se электрохимическим методом. Исследование проводилось потенциодинамическим, потенциостатическим и гальваностатическим методами, в различных условиях на Pt и Ni электродах. Математические расчеты были выполнены в программном пакете с использованием специально разработанного для этого процесса программного обеспечения. С изучением влияний различных факторов (концентрации исходных компонентов, температуры, плотности тока и т.д.) были выбраны оптимальный режим электролиза и состав электролита для процесса совместного осаждения. По этим результатам для будущих целей были назначены критерии Снедоккора и Фишера и оценены коэффициенты регрессии. Полученное уравнение регрессии определяет содержание электролита и условия электролиза, которое позволяет осаждать сплав Bi-Se, содержащий в составе необходимое количество Bi.