VARIASI KONSENTRASI ION Ni2+ TERHADAP DISPERSI Si3N4 PADA LAPISAN NANOKOMPOSIT Ni-SILIKON NITRIT

Pelapisan nanokomposit Ni/Si3N4 pada substrat Cu telah dilakukan dengan proses elektroplating pada berbagai konsentrasi ion Ni2+ pada 0,26; 0,56; 0,86; 1,16; dan 1,46 M. Nano silicon nitrit dicampur pada larutan sebagai dispersed phase. Pengaruh konsentrasi ion Ni2+ dalam larutan plating dikaji terhadap dispersi partikel pada lapisan nanokomposit Nikel-Silikon Nitrit. Untuk mengetahui struktur, sifat-sifat fisik dan kimia dari bahan sintesis, beberapa prosedur karakterisasi telah dilakukan. Dari hasil analisis komposisi lapisan nanokomposit menggunakan energy dispersive X-ray analysis (EDX), diperoleh penurunan konsentrasi ion Ni2+ pada elektrolit menyebabkan peningkatan kandungan Si pada lapisan nanokomposit Ni/S3N4 dari 0,62 at.% menjadi 3,01 at.%. Sedangkan dari Scanning Electron Microscopy (SEM) surface morphologies lapisan nanokomposit Ni/Si3N4 terlihat struktur dari lapisan nano komposit compact (padat) dan ukuran butir semakin kecil dengan penurunan konsentrasi ion Ni2+. Secara umum dispersi dari partikel penguat Si pada lapisan nanokomposit Ni/Si3N4 merata pada permukaan lapisan. semakin kecil konsentrasi ion Ni2+ dalam larutan plating semakin tinggi efisiensinya.Kata kunci: Elektroplating, Nanokristal, Nanokomposit, Ni, Si3N4