z-logo
open-access-imgOpen Access
Pengaruh Rapat Arus dan Waktu Pelapisan Terhadap Kualitas Lapisan Nikel pada Temperatur Kamar
Author(s) -
Pradoto Ambardi
Publication year - 2020
Publication title -
jurnal teknik/jurnal teknik : media pengembangan ilmu dan aplikasi teknik
Language(s) - Uncategorized
Resource type - Journals
eISSN - 2580-2615
pISSN - 1412-8810
DOI - 10.26874/jt.vol6no2.270
Subject(s) - physics
Proses pelapisan nikel temperatur kamar dilakukan dengan memvariasikan waktu proses dan rapat arus. Bila dibandingkan dengan pelapisan nikel temperatur tinggi (T - 40 -700C), biaya nikel temperatur kamar jauh lebih rendah 57,496, sehingga diharapkan dapat menurunkan biaya produksi pelapisan. Data pemeriksaan/pengujian yang dilakukan pada spesimen yang telah dilapis menunjukkan bahwa kualitas lapisan nilikel temperatur kamar memberikan hasil yang mengkilap, memiliki daya lekat yang baik, dan ketahanan korosi yang cukup tinggi.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here