
Pengaruh Rapat Arus dan Waktu Pelapisan Terhadap Kualitas Lapisan Nikel pada Temperatur Kamar
Author(s) -
Pradoto Ambardi
Publication year - 2020
Publication title -
jurnal teknik/jurnal teknik : media pengembangan ilmu dan aplikasi teknik
Language(s) - Uncategorized
Resource type - Journals
eISSN - 2580-2615
pISSN - 1412-8810
DOI - 10.26874/jt.vol6no2.270
Subject(s) - physics
Proses pelapisan nikel temperatur kamar dilakukan dengan memvariasikan waktu proses dan rapat arus. Bila dibandingkan dengan pelapisan nikel temperatur tinggi (T - 40 -700C), biaya nikel temperatur kamar jauh lebih rendah 57,496, sehingga diharapkan dapat menurunkan biaya produksi pelapisan.
Data pemeriksaan/pengujian yang dilakukan pada spesimen yang telah dilapis menunjukkan bahwa kualitas lapisan nilikel temperatur kamar memberikan hasil yang mengkilap, memiliki daya lekat yang baik, dan ketahanan korosi yang cukup tinggi.