Pengaruh Rapat Arus dan Waktu Pelapisan Terhadap Kualitas Lapisan Nikel pada Temperatur Kamar
Author(s) -
Pradoto Ambardi
Publication year - 2020
Publication title -
jurnal teknik media pengembangan ilmu dan aplikasi teknik
Language(s) - Uncategorized
Resource type - Journals
eISSN - 2580-2615
pISSN - 1412-8810
DOI - 10.26874/jt.vol6no2.270
Subject(s) - physics
Proses pelapisan nikel temperatur kamar dilakukan dengan memvariasikan waktu proses dan rapat arus. Bila dibandingkan dengan pelapisan nikel temperatur tinggi (T - 40 -700C), biaya nikel temperatur kamar jauh lebih rendah 57,496, sehingga diharapkan dapat menurunkan biaya produksi pelapisan.
Data pemeriksaan/pengujian yang dilakukan pada spesimen yang telah dilapis menunjukkan bahwa kualitas lapisan nilikel temperatur kamar memberikan hasil yang mengkilap, memiliki daya lekat yang baik, dan ketahanan korosi yang cukup tinggi.
Accelerating Research
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom
Address
John Eccles HouseRobert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom