Open AccessPengaruh Lama Penumbuhan Titanium Dioksida Didoping Copper Terhadap Energi Gap
Author(s) -
Ade Usra Berli,
Dahyunir Dahlan,
Akrajas Ali Umar
Publication year - 2017
Publication title -
jurnal ilmu fisika
Language(s) - Lithuanian
Resource type - Journals
eISSN - 2614-7386
pISSN - 1979-4657
DOI - 10.25077/jif.8.2.60-63.2016
Subject(s) - copper , titanium , deposition (geology) , materials science , metallurgy , geology , paleontology , sediment
Deposisi lapisan TiO2 didoping Cu telah berhasil ditumbuhkan dengan menggunakan metoda Liquid Phase Deposition (LPD). Lapisan TiO2-Cu dibuat dengan menggunakan material Ammonium hexafluorotitanate ((NH4)2TiF6), Copper (II) Nitrate hydrate (Cu(NO3)2·xH2O), dan Hexamethylen tetramine (C6H12N4). Dalam penelitian ini dilakukan variasi lama penumbuhan lapisan yaitu 3 jam, 5 jam, 7 jam dan 10 jam. Lapisan TiO2-Cu dikarakterisasi menggunakan Spektrometri Ultraviolet-Visible (UV-Vis) untuk menentukan energi gap melalui spektra difusi reflektansi. Hasil energi gap yang diperoleh pada lapisan TiO2-Cu dengan variasi lama penumbuhan yaitu antara 3,26-3,30 eV.Kata kunci: Titanium dioksida (TiO2), Liquid Phase Deposition (LPD) dan doping