Open AccessСовершенствование технологии изготовления рельефных голографических решеток на бихромированном желатине, облученных коротковолновым УФ излучением
Author(s) -
N. M. Ganzherli,
S. N. Guliaev,
I. A. Maurer
Publication year - 2021
Publication title -
optika i spektroskopiâ
Language(s) - Russian
Resource type - Journals
eISSN - 2782-6694
pISSN - 0030-4034
DOI - 10.21883/os.2021.10.51493.2283-21
Subject(s) - chemistry
Предложен новый вариант изготовления высокочастотных голографических решеток с пространственной частотой вплоть до 1500 mm -1 на слоях бихромированного желатина (БХЖ), из технологии обработки которого полностью исключены водные процедуры. Метод основан на применении ледяной уксусной кислоты после облучения слоев коротковолновым УФ излучением, в отличие от стандартной методики обработки зарегистрированных когерентным излучением He-Cd-лазера голографических структур. В ходе экспериментов получены рельефно-фазовые голографические решетки с дифракционной эффективностьюдо 41% при толщине слоя БХЖ 1.1 μm и до 64% при 5.6 μm. Ключевые слова: голографические дифракционные решетки, бихромированный желатин, коротковолновое УФ излучение, поверхностный рельеф, дифракционная эффективность, ледяная уксусная кислота, изопропанол.