Cверхтонкие эпитаксиальные пленки кобальта, сформированные под графеном

Исследован процесс интеркаляции кобальта под однослойный графен, выращенный на монокристаллической пленке Ni(111). Эксперименты проведены в условиях сверхвысокого вакуума. Характеризация образцов выполнена in situ методами дифракции медленных электронов, фотоэлектронной спектроскопии высокого энергетического разрешения с использованием синхротронного излучения и магнитного линейного дихроизма в фотоэмиссии Со 3p электронов. Получены новые данные об эволюции атомной, электронной структуры и магнитных свойств системы с увеличением толщины слоя интеркалированного кобальта в диапазоне до 2 nm. Показано, что в ходе интеркаляции под слоем графена образуется псевдоморфная эпитаксиальная пленка Со(111), обладающая перпендикулярной поверхности намагниченностью в аномально широком диапазоне толщин. Авторы признательны Helmholtz-Zentrum Berlin за возможность использования синхротронного излучения. И.И. Пронин благодарит Минобрнауки РФ за поддержку работы (задание 3.3161.2017 проектной части госзадания), Г.С. Гребенюк признателен РФФИ за финансовую поддержку (грант N 16-02-00387). DOI: 10.21883/FTT.2017.10.44975.116