Электронно-микроскопическое исследование кинетики слоевой и островковой кристаллизации аморфных пленок V-=SUB=-2-=/SUB=-O-=SUB=-3-=/SUB=-, осажденных импульсным лазерным напылением

Проведено электронно-микроскопическое исследование кинетики слоевой и островковой кристаллизации аморфных пленок V 2 O 3 , осажденных лазерным распылением V в атмосфере кислорода. Кристаллизацию инициировали воздействием электронного луча на аморфную пленку в колонне микроскопа. Кинетические кривые строили на основании покадрового анализа видеофильма, снятого в процессе кристаллизации пленки. Установлено, что при слоевой кристаллизации имеет место квадратичная зависимость доли кристаллической фазы x от времени t. При островковой кристаллизации зависимость x от t экспоненциальная. Анализ кинетических кривых островковой кристаллизации проведен на основе alpha-варианта модели Колмогорова. Типу кристаллизации ставится в соответствие безразмерная относительная единица длины delta 0 , равная отношению характерной единицы длины к параметру, характеризующему элементарную ячейку кристалла. Для слоевой кристаллизации delta 0 ~4300-4700. Для мелкокристаллической островковой кристаллизации delta 0 ~110. DOI: 10.21883/FTT.2017.06.44493.376