Кинетика электронно-лучевой кристаллизации аморфных пленок ZrO-=SUB=-2-=/SUB=-, полученных ионно-плазменным и лазерным напылением

Проведено сопоставление структуры и кинетики электронно-лучевой кристаллизации аморфных пленок ZrO 2 , полученных с помощью ионно-плазменного и лазерного напыления. Исследования выполнены методами электронографии и просвечивающей электронной микроскопии со съемками видео-фильмов in situ. Воздействие на аморфную пленку электронного луча в вакууме сопровождается образованием микрокристаллов диоксида циркония с решеткой ГЦК. При лазерном испарении плотность центров кристаллизации beta~ 10 9 sm -2 , а характерная единица длины D 0 ~0.48 mum. При ионно-плазменном испарении beta~ 10 10 sm -2 , а D 0 ~ 0.06 mum. Анализ кинетических кривых кристаллизации аморфных пленок проведен на основе beta-варианта модели Колмогорова. DOI: 10.21883/FTT.2017.01.43965.195