z-logo
open-access-imgOpen Access
Влияние дозы имплантации и длительности отжига на люминесцентные свойства (113) дефектов в Si, имплантированном ионами кислорода
Author(s) -
Н. А. Соболев,
А.Е. Калядин,
П. Н. Аруев,
В. В. Забродский,
E. I. Shek,
K. F. Shtel’makh,
K. V. Karabeshkin
Publication year - 2016
Publication title -
физика твердого тела
Language(s) - Russian
Resource type - Journals
eISSN - 1726-7498
pISSN - 0367-3294
DOI - 10.21883/ftt.2016.12.43865.199
Subject(s) - materials science , physics , chemistry
Исследованы фотолюминесцентные свойства (113) дефектов, образующихся в Si-структуре после имплантации ионов кислорода с энергией 350 keV и дозами 1.7·10 13 -1.7·10 15 cm -2 и последующего отжига при 700 o C в течение 0.5-2 h в хлорсодержащей атмосфере. Независимо от дозы имплантации и времени отжига в спектрах фотолюминесценции доминирует линия с длиной волны 1.37 mum, принадлежащая (113) дефекту. Зависимости интенсивности линии от дозы имплантации и длительности отжига характеризуются кривыми с максимумами. С ростом температуры измерения в диапазоне 64-120 K интенсивность линии монотонно уменьшается. Работа Н.А. Соболева и К.В. Карабешкина частично поддержана грантом РФФИ N 14-08-01256, а работа Е.И. Шек --- грантом РФФИ N 14-02-00152.

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom