Определение толщины зародышевого слоя AlN, сформированного на поверхности Al-=SUB=-2-=/SUB=-O-=SUB=-3-=/SUB=-(0001) в процессе нитридизации, методами РФЭС и ИК-спектроскопии | Zendy

Д.С. Милахин | Zendy; Т.В. Малин | Zendy; В.Г. Мансуров | Zendy; А.С. Кожухов | Zendy; Н.Н. Новикова | Zendy; В.А. Яковлев | Zendy; К.С. Журавлев | Zendy

Open Access

Определение толщины зародышевого слоя AlN, сформированного на поверхности Al-=SUB=-2-=/SUB=-O-=SUB=-3-=/SUB=-(0001) в процессе нитридизации, методами РФЭС и ИК-спектроскопии

Author(s) -

Д.С. Милахин,

Т.В. Малин,

В.Г. Мансуров,

А.С. Кожухов,

Н.Н. Новикова,

В.А. Яковлев,

К.С. Журавлев

Publication year - 2022

Publication title -

физика и техника полупроводников

Language(s) - Russian

Resource type - Journals

eISSN - 1726-7315

pISSN - 0015-3222

DOI - 10.21883/ftp.2022.08.53137.23

Subject(s) - nucleation , sapphire , materials science , crystallite , x ray photoelectron spectroscopy , layer (electronics) , monolayer , spectroscopy , crystallography , analytical chemistry (journal) , infrared spectroscopy , chemical engineering , chemistry , nanotechnology , optics , metallurgy , organic chemistry , chromatography , quantum mechanics , laser , physics , engineering

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.

Having issues? You can contact us here

Accelerating Research