Open AccessСтруктурные изменения в пленках кремний-на-изоляторе нанометровой толщины при высокотемпературном отжиге
Author(s) -
И.Е. Тысченко,
Е.В. Спесивцев,
А.А. Шкляев,
В.П. Попов
Publication year - 2022
Publication title -
fizika i tehnika poluprovodnikov
Language(s) - Russian
Resource type - Journals
eISSN - 1726-7315
pISSN - 0015-3222
DOI - 10.21883/ftp.2022.03.52118.9766
Subject(s) - materials science
Термическая стабильность пленок кремний-на-изоляторе толщиной 4.7 и 2.2 нм исследовалась в зависимости от температуры отжига в интервале T=800-1200 o С методами сканирующей электронной микроскопии и спектральной эллипсометрии. Никаких признаков плавления пленок не наблюдалось, пленки оставались протяженными в указанном интервале температур. Обнаружено уменьшение толщины пленок и изменение их фазового состава с ростом температуры. По данным спектральной эллипсометрии, с увеличением температуры отжига доля кристаллической фазы в пленках уменьшается, а доля аморфной растет. Определена энергия активации процесса аморфизации пленок. Обнаруженный эффект обсуждается с точки зрения диффузии атомов кислорода в пленку кремния и перестройки Si-Si-связей. Ключевые слова: кремний-на-изоляторе, термическая стабильность, наноструктуры, аморфизация.