z-logo
open-access-imgOpen Access
Воздействие протонного облучения с энергией 8 МэВ на гетероэпитаксиальные слои n-3C-SiC
Author(s) -
А.А. Лебедев,
Б.Я. Бер,
Г.А. Оганесян,
Sveylana Belov,
С. П. Лебедев,
I. P. Nikitina,
N. V. Seredova,
L. V. Shakhov,
В. В. Козловский
Publication year - 2017
Publication title -
физика и техника полупроводников
Language(s) - Russian
Resource type - Journals
eISSN - 1726-7315
pISSN - 0015-3222
DOI - 10.21883/ftp.2017.08.44795.8535
Subject(s) - file transfer protocol , materials science , nuclear chemistry , chemistry , computer science , operating system , the internet
Исследовано воздействие протонного облучения с энергией 8 МэВ на эпитаксиальные слои n-3C-SiC, выращенные методом сублимации на полуизолирующих подложках 4H-SiC. Изменения параметров образцов регистрировали методом эффекта Холла и по спектрам фотолюминесценции. Метод Холла был применен для раздельной оценки влияния облучения на концентрацию и подвижность носителей заряда. Скорость удаления носителей (V d ) составила ~110 см -1 . Полная компенсация образцов с исходной концентрацией носителей заряда 6.5·10 17 см -3 наблюдалась при дозах облучения ~6·10 15 см -2 . Подвижность носителей заряда при таких дозах облучения уменьшалась всего в 2.5 раза. По сравнению с 4H и 6H карбида кремния не было отмечено значительного увеличения интенсивности так называемой "дефектной" фотолюминесценции. DOI: 10.21883/FTP.2017.08.44795.8535

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom