z-logo
open-access-imgOpen Access
Электрофизические свойства и механизмы переноса в тонких пленках материалов фазовой памяти на основе халькогенидных полупроводников квазибинарного разреза GeTe-Sb-=SUB=-2-=/SUB=-Te-=SUB=-3-=/SUB=-
Author(s) -
А. А. Шерченков,
С.А. Козюхин,
П.И. Лазаренко,
Alexey Babich,
Н.А. Богословский,
I. V. Sagunova,
E. N. Redichev
Publication year - 2017
Publication title -
физика и техника полупроводников
Language(s) - Russian
Resource type - Journals
eISSN - 1726-7315
pISSN - 0015-3222
DOI - 10.21883/ftp.2017.02.44096.8270
Subject(s) - antimony , tellurium , materials science , file transfer protocol , crystallography , physics , chemistry , metallurgy , computer science , operating system , the internet
Исследованы температурные зависимости удельного сопротивления и вольт-амперных характеристик тонких пленок материалов фазовой памяти на основе халькогенидных полупроводников квазибинарного разреза GeTe-Sb 2 Te 3 : Ge 2 Sb 2 Te 5 , GeSb 2 Te 4 и GeSb 4 Te 7 . Изучено влияние изменения состава по линии квазибинарного разреза на электрофизические характеристики и механизмы переноса тонких пленок. Установлено наличие трех диапазонов с различной зависимостью между током и напряжением. Оценено положение и концентрация энергетических уровней, контролирующих перенос носителей. Полученные результаты показывают, что электрофизические свойства тонких пленок могут существенно изменяться при движении вдоль линии квазибинарного разреза GeTe-Sb 2 Te 3 , что важно для целенаправленной оптимизации технологии фазовой памяти. DOI: 10.21883/FTP.2017.02.44096.8270

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here
Accelerating Research

Address

John Eccles House
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom