z-logo
open-access-imgOpen Access
Особенности зонной структуры и механизмов проводимости полупроводника n-HfNiSn, сильно легированного Y
Author(s) -
В.А. Ромака,
P. Rogl,
В.В. Ромака,
D. Kaczorowski,
В.Я. Крайовский,
Ю.В. Стаднык,
А.М. Горынь
Publication year - 2017
Publication title -
fizika i tehnika poluprovodnikov
Language(s) - Russian
Resource type - Journals
eISSN - 1726-7315
pISSN - 0015-3222
DOI - 10.21883/ftp.2017.02.44095.8129
Subject(s) - chemistry , nuclear chemistry , physics
Исследованы кристаллическая и электронная структуры, энергетические, кинетические и магнитные характеристики полупроводника n-HfNiSn, сильно легированного акцепторной примесью Y, в диапазонах: T=80-400 K, N A Y ~1.9·10 20 -5.7 21 см -3 (x=0.01-0.30) и H≤10 кГс. Установлена природа механизма генерирования структурных дефектов, приводящего к изменению ширины запрещенной зоны и степени компенсации полупроводника, суть которого в одновременном уменьшении и ликвидации структурных дефектов донорной природы в результате вытеснения ~1% атомов Ni из позиции Hf (4 a) и генерировании структурных дефектов акцепторной природы при замещении атомов Hf в позиции 4 a атомами Y. Результаты расчета электронной структуры Hf 1-x Y x NiSn согласуются с экспериментальными данными. Обсуждение результатов ведется в рамках модели сильно легированного и компенсированного полупроводника Шкловского-Эфроса. DOI: 10.21883/FTP.2017.02.44095.8129

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here