Open AccessMethod of Controlling the Morphology of Cathode Deposit by Determining Electrochemical Resistance for Copper Electrodeposition Process
Author(s) -
Дмитро Юрійович Ущаповський,
Ольга Володимирівна Лінючева,
М. И. Донченко,
Михайло Володимирович Бик,
Андрій Сергійович Цимбалюк
Publication year - 2016
Publication title -
naukovì vìstì nacìonalʹnogo tehnìčnogo unìversitetu ukraïni "kiïvsʹkij polìtehnìčnij ìnstitut"
Language(s) - English
Resource type - Journals
eISSN - 2519-8890
pISSN - 1810-0546
DOI - 10.20535/1810-0546.2016.2.60951
Subject(s) - copper , electrowinning , current density , cathode , electrochemistry , limiting current , sulfuric acid , metallurgy , polarization (electrochemistry) , materials science , cathodic protection , exchange current density , chemistry , electrolyte , electrode , analytical chemistry (journal) , tafel equation , physics , quantum mechanics , chromatography