z-logo
open-access-imgOpen Access
Получение высокопористого каолина путем термической и кислотной активации
Author(s) -
А.К. Оспанова,
Ж.Б. Бекисанова,
Б. Балтабаева,
Д.Т. Рахматуллаева
Publication year - 2021
Publication title -
gorenie i plazmohimiâ
Language(s) - Russian
Resource type - Journals
ISSN - 1683-3902
DOI - 10.18321/cpc443
Subject(s) - physics
Казахстанский каолин характеризуется высокой химической, термической и механической стабильностью, и является экологически безопасным и дешевым отечественным глинистым минералом. Однако удельная поверхность природного каолина не превышает 17-20 м2/г и поэтому целесообразно его модифицировать с целью улучшения поверхностных и адсорбционных характеристик. Разработан способ получения высокопористого носителя на основе Казахстанского каолина. Каолин предварительно подвергают кислотной активации 10% фосфорной кислотой при 90-100 оС и дальнейшей термической модификацией при 500 оС с целью увеличения удельной поверхности. Для получения высокопористого каолина был использован метод Штобера, который основан на гидролизе алкоксидов кремния в водно-спиртовой среде. Образцы каолина, после кислотной модификации, обрабатывали олигосиликатом при соотношении весовых частей модифицированный каолин:органический полимер:тетраэтоксилан, равном 1:1:3 до получения однородной массы с последующей термоактивацией при 550 оС. В качестве органического полимера для реакции гидролиза тетраэтоксилана использовали полиэтиленгликоль в 4000 г/моль. Удельная поверхность модифицированного каолина увеличивается практически с 13,453 до 616,831 м2/г.Полученный композитный материал может быть использован: как платформа для получения нанокатализаторов в химической технологии, как высокопористый сорбент для концентрирования, извлечения и обезвреживания ионов токсичных и радиоактивных металлов из промышленных сточных вод, и как носитель для лекарственных веществ в фармацевтической отрасли.  

The content you want is available to Zendy users.

Already have an account? Click here to sign in.
Having issues? You can contact us here