ВЛИЯНИЕ АНОДИРОВАНИЯ НА КИНЕТИКУ ВЫДЕЛЕНИЯ ВОДОРОДА НА СИЛИЦИДАХ КОБАЛЬТА В РАСТВОРЕ СЕРНОЙ КИСЛОТЫ

Изучено влияние анодирования Co2Si- и CoSi2-электродов в 0.5 M H2SO4 при потенциалах формирования оксида Ef от 0.4 до 2.0 В (с.в.э.) на кинетику реакции выделения водорода (РВВ) в 0.5 M H2SO4. Установлено, что поведение анодного оксида на силицидах кобальта с низким и высоким содержанием Si существенно различается: оксидные пленки на Co2Si, полученные при всех изученных Ef, катодно восстанавливаются; оксидные пленки на CoSi2 сохраняются в катодной области. Сделан вывод, что на анодированном CoSi2-электроде РВВ протекает на границе оксид/раствор с участием туннелирующих через оксидную пленку электронов; лимитирующей стадией является разряд ионов водорода.