
APPLICATION OF IN SITU X–RAY REFLECTIVITY FOR DETERMINING PARAMETERS OF NANOSCALE SILICON FILMS
Author(s) -
Смирнов Игорь Сергеевич,
Монахов Иван Сергеевич,
Егоров Антон Алексеевич,
Новоселова Елена Григорьевна
Publication year - 2015
Publication title -
izvestiâ vysših učebnyh zavedenij. materialy èlektronnoj tehniki
Language(s) - English
Resource type - Journals
eISSN - 2413-6387
pISSN - 1609-3577
DOI - 10.17073/1609-3577-2013-1-35-37
Subject(s) - nanoscopic scale , x ray reflectivity , silicon , reflectivity , in situ , materials science , optics , remote sensing , optoelectronics , nanotechnology , geology , physics , meteorology