Angular Distributions of Sputtered Atoms from Semiconductor Targets at Grazing Ion Beam Incidence Angles
Author(s) -
M. Sekowski,
A. Burenkov,
J.M. Hernández-Mangas,
Alberto Martinez-Limia,
H. Ryssel,
Edmund G. Seebauer,
Susan B. Felch,
Amitabh Jain,
Yevgeniy V. Kondratenko
Publication year - 2008
Publication title -
aip conference proceedings
Language(s) - German
Resource type - Conference proceedings
SCImago Journal Rank - 0.177
H-Index - 75
eISSN - 1551-7616
pISSN - 0094-243X
DOI - 10.1063/1.3033602
Subject(s) - semiconductor , materials science , ion , ion beam , atomic physics , sputtering , beam (structure) , incidence (geometry) , optoelectronics , optics , physics , thin film , nanotechnology , quantum mechanics
Der Zerstäubungsprozess von Germanium und Silicium wird experimentell und durch Monte-Carlo Simulationen untersucht. Insbesondere wird der streifende Ioneneinfall untersucht, da hier die Winkelverteilungen zerstäubter Atome asymmetrisch zum Polarwinkel sind. Ein verbessertes analytisches Modell zur Beschreibung von Winkelverteilungen wird vorgestellt, welches zusätzlich vom Ioneneinfallswinkel abhängig ist
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