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Chemische Reaktionen in Gasentladungen. III. Die thermolytische und plasmachemisch angeregte Zersetzung von Si 2 OCl 6
Author(s) -
Kornick A.,
Binnewies M.
Publication year - 1990
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19905870118
Subject(s) - chemistry , medicinal chemistry
Die thermolytische sowie plasmachemisch angeregte Zersetzung von Si 2 OCl 6 wurde massenspektrometrisch untersucht. Bei Temperaturen zwischen 1300 K und 1400 K führt diese Reaktion zu zahlreichen höhermolekularen Chlorosiloxanen. Diese können als metastabile Zwischenstufen bei der Abscheidung von SiO 2 im Sinne der Bruttoreaktion 2 Si 2 OCl 6 = SiO 2 + 3 SiCl 4 aufgefaßt werden. Der Ablauf dieser für die Herstellung von Lichtleitfasern bedeutsamen Reaktion wird diskutiert.