Chemische Reaktionen in Gasentladungen. III. Die thermolytische und plasmachemisch angeregte Zersetzung von Si 2 OCl 6

Die thermolytische sowie plasmachemisch angeregte Zersetzung von Si 2 OCl 6 wurde massenspektrometrisch untersucht. Bei Temperaturen zwischen 1300 K und 1400 K führt diese Reaktion zu zahlreichen höhermolekularen Chlorosiloxanen. Diese können als metastabile Zwischenstufen bei der Abscheidung von SiO 2 im Sinne der Bruttoreaktion 2 Si 2 OCl 6 = SiO 2 + 3 SiCl 4 aufgefaßt werden. Der Ablauf dieser für die Herstellung von Lichtleitfasern bedeutsamen Reaktion wird diskutiert.