Über die Chemie der Oxydation gasförmiger Gemische von C 2 F 3 Cl 3 , SiCl 4 , GeCl 4  und POCl 3  bei hohen Temperaturen | Zendy

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Über die Chemie der Oxydation gasförmiger Gemische von C 2 F 3 Cl 3 , SiCl 4 , GeCl 4 und POCl 3 bei hohen Temperaturen

Author(s) -

Kleinert P.,

Schmidt D.,

Grau L.,

Laukner H.J.

Publication year - 1988

Publication title -

zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie

Language(s) - German

Resource type - Journals

SCImago Journal Rank - 0.354

H-Index - 66

eISSN - 1521-3749

pISSN - 0044-2313

DOI - 10.1002/zaac.19885650117

Subject(s) - chemistry , medicinal chemistry

Die bei der Oxydation von gasförmigen Gemischen von C 2 F 3 Cl 3 , SiCl 4 , POCl 3 und GeCl 4 im Temperaturbereich von 1273 bis 2223 K im Quarzglasreaktor entstehenden Verbindungen werden in den Abgasen IR‐spektroskopisch untersucht. Danach entstehen bei der tiefen Temperatur als Zwischenprodukte CO, COF 2 , COFCl und CF 4 , die bei der hohen Temperatur unter Wechselwirkung mit SiO 2 in die Endprodukte CO 2 , Cl 2 , SiF 4 , POF 3 und GeF 4 übergeführt werden. Die Abhängigkeit dieser Reaktionen von Temperatur und Strömungsgeschwindigkeit wird diskutiert.

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