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Bildung von HfSiO 4 ‐Einkristallen durch chemische Transportreaktion
Author(s) -
Fuhrmann Jürgen,
Pickardt Joachim
Publication year - 1986
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19865320123
Subject(s) - chemistry , crystallography
Bei Transportversuchen zur Einkristallzüchtung des Spinells CuCrHfSe 4 mit TeCl 4 als Transportmittel wurde die Bildung von HfSiO 4 ‐Kristallen (Hafnon) beobachtet. Die Charakterisierung der Kristalle erfolgte durch Analyse mit der Elektronenstrahlmikrosonde und mit Röntgenmethoden. Die Kristalle weisen Zirkonstruktur auf; Raumgruppe I4 1 /amd, a = 658,0(2), c = 598,0(6) pm. Aus der Strukturverfeinerung von Einkristall‐Röntgendaten wurden die Ortsparameter und Temperaturfaktoren bestimmt. In nachfolgenden Versuchen gelang es, Hafnonkristalle gezielt durch Chemische Transportreaktion, ausgehend von den Oxiden HfO 2 und SiO 2 , zu züchten.

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