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Vergleichende Untersuchungen an Silyloxy‐ und Disilanyloxy‐Verbindungen
Author(s) -
Kelling H.,
Voss P.,
Stendel R.,
Popowski E.
Publication year - 1981
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19814760507
Subject(s) - chemistry , medicinal chemistry , stereochemistry
Die Lage SiOY‐charakteristischer IR‐Banden sowie die relative Basizität bzw. Acidität von Me 3 SiOY und Me 5 Si 2 OY wurden mit entsprechenden Daten von Verbindungen des allgemeinen Typs XMe 2 SiOX verglichen (X = Halogenmethyl, Benzyl, α‐Halogenbenzyl; Y = H, Alkyl, Phenyl, SiMe 2 X). Die Meßdaten zeigen gute lineare Beziehungen zu den Taftschen σ*‐Konstanten, mit Ausnahme der Werte für die Disilanyl‐Verbindungen (X = Me 3 Si). Diese Abweichungen werden durch einen spezifischen Acceptorcharakter der SiSi‐Bindung erklärt.