Vergleichende Untersuchungen an Silyloxy‐ und Disilanyloxy‐Verbindungen

Die Lage SiOY‐charakteristischer IR‐Banden sowie die relative Basizität bzw. Acidität von Me 3 SiOY und Me 5 Si 2 OY wurden mit entsprechenden Daten von Verbindungen des allgemeinen Typs XMe 2 SiOX verglichen (X = Halogenmethyl, Benzyl, α‐Halogenbenzyl; Y = H, Alkyl, Phenyl, SiMe 2 X). Die Meßdaten zeigen gute lineare Beziehungen zu den Taftschen σ*‐Konstanten, mit Ausnahme der Werte für die Disilanyl‐Verbindungen (X = Me 3 Si). Diese Abweichungen werden durch einen spezifischen Acceptorcharakter der SiSi‐Bindung erklärt.