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Festkörperreaktionen mit Hexafluorosilicat
Author(s) -
Kolditz Lothar,
Wilde Wolfgang,
Feist Susanne
Publication year - 1979
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19794520108
Subject(s) - chemistry , physics
Es wird die thermische Zersetzungsreaktion von Na 2 SiF 6 , BaSiF 6 und besonders von K 2 SiF 6 beschrieben. Bei K 2 SiF 6 tritt im Röntgendiagramm eine Linie bei d = 4,07 Å auf, die nicht einer Cristobalitbildung zugeschrieben werden kann. Sie ist vielmehr dem Abstand von bei der Zersetzung entstandenen KF‐Ebenen zuzuordnen, die der bei Austauschreaktionen festgestellten aktiven KF‐Komponente entsprechen. Kristallines KF tritt dabei im Röntgenbild nicht auf. Eine analoge Linienveränderung wird bei Rb 2 SiF 6 (d = 4,22 Å) gefunden. Die Wirkung einer aktiven SiF‐Komponente bei der Zersetzung kann in der Reaktion mit NaCl festgestellt werden, wo ein F‐Transport in die NaCl‐Schicht und ein Cl‐Transport in die K 2 SiF 6 ‐Schicht beobachtet wird. Ein äquivalenter Kationentransport tritt unter diesen Bedingungen noch nicht ein.