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Thermische Zersetzung und Aktivierung von Hexafluorosilicaten für Halogenaustauschreaktionen, ein Beitrag zur Frage der Wanderung von komplexen Gruppen in Festkörpern
Author(s) -
Kolditz Lothar,
Janiak Friedrich,
Wilde Wolfgang,
Sciesielski Sonja,
Feist Susanne
Publication year - 1979
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19794520107
Subject(s) - chemistry , medicinal chemistry , physics
Thermische Zersetzung und die damit für den Halogenaustausch verbundene Aktivierung von kubischen Hexafluorosilicaten A 2 SiF 6 mit A = K, Rb, Cs, Tl werden besonders am Beispiel von A = K beschrieben. Es wird eine aktive KF‐ und eine aktive Si‐Komponente nachgewiesen. Die Aktivierung von KF im Gemisch mit K 2 SiF 6 wird erläutert. Der Mechanismus der Zersetzung wird dargestellt und durch einen Formelvorschlag beschrieben. Im Festkörper wird die Wanderung von SiF‐Gruppierungen postuliert.