Die Reaktion von Quarzglas mit Al 2 Cl 6,g  und mit Al rf  + Al 2 Cl 6,g | Zendy

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Die Reaktion von Quarzglas mit Al 2 Cl 6,g und mit Al rf + Al 2 Cl 6,g

Author(s) -

Schäfer Harald

Publication year - 1978

Publication title -

zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie

Language(s) - German

Resource type - Journals

SCImago Journal Rank - 0.354

H-Index - 66

eISSN - 1521-3749

pISSN - 0044-2313

DOI - 10.1002/zaac.19784450116

Subject(s) - chemistry , medicinal chemistry

Der Angriff von Quarzglas durch Al 2 Cl 6,g führt bei ≧ 300°C zur Bildung von SiCl 4,g. Der Sauerstoff erscheint bei niedriger Temperatur als gasförmiges Oxidchlorid (z. B. Al 4 ,OCl 10 , u. a.), bei höherer Temperatur als kristallines AlOCl und bei noch höherer Temperatur als Aluminiumoxid. Al + Al 2 Cl 6 (1 atm, 20°C) verursachen bei 400/350° C die Bildung folienartiger, metallisch aussehender Si‐Beläge auf der Quarzwand. Experimente und eine ausführliche Diskussion machen es wahrscheinlich, daß die Reduktion des primär (durch Quarzangriff) entstandenen SiCl 4 durch Al 2 Cl 4,g erfolgt.

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