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Trimethylsilylmethoxy‐Derivate von C, Si, Ge, Sn
Author(s) -
Schott G.,
Kelling H.,
Uhle K.,
Ostwald C.
Publication year - 1977
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19774340116
Subject(s) - chemistry , crystallography
Einige Modellsubstanzen des Typs Me 3 SiCH 2 OMR 3 [M C, Si, Ge, Sn] wurden dargestellt. Die Bindungsverhältnisse in der Atomgruppe SiCH 2 OM wurden untersucht anhand von Basizitätsmessungen, sowie von IR‐ und 1 H‐NMR‐Spektren.