Bildung siliciumorganischer Verbindungen. 66. (H 2 SiCH 2 ) 2 und Si‐substituierte Derivate

(H 2 SiCH 2 ) 2 1 wird durch Umsetzung von (Cl 2 SiCH 2 ) 2 mit LiAlH 4 zugänglich. Bei der Umsetzung von 1 mit Cl 2 oder Br 2 ist die SiH‐Halogenierung gegenüber der Ringspaltung so stark bevorzugt, daß sich nacheinander alle Verbindungen von 1‐Monochlor‐1,3‐disilacyclobutan bis zum (X 2 SiCH 2 ) 2 (X = Cl, Br) bilden. Die Beständigkeit des 1,3‐Disilacyclobutangerüstes gegen HBr bzw. Br 2 steigt mit der Elektronegativität der Si‐Substituenten. So wird (Cl 2 SiCH 2 ) 2 weder von Br 2 noch HBr gespalten. Während z. B. [H(C 6 H 5 )SiCH 2 ] 2 mit Brom zu [Br(C 6 H 5 ) SiCH 2 ] 2 reagiert, bildet es mit HBr das meH(C 6 H 5 )SiCH 2 SiBr(C 6 H 5 )H (me = CH 3 ). In [me(C 6 H 5 )SiCH 2 ] 2 wird der Ring sowohl von Br 2 als auch von HBr gespalten. Es werden die 1 H‐, 29 Si‐ und 13 C‐NMR‐Spektren angegeben.