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Bildung siliciumorganischer Verbindungen, XXXIV . Die niedermolekularen Carbosilane aus der Pyrolyse des Tetramethylsilans
Author(s) -
Fritz G.,
Götz N.
Publication year - 1970
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19703750208
Subject(s) - chemistry , medicinal chemistry , stereochemistry
Es werden alle flüchtigen und destillierbaren Verbindungen aus der Pyrolyse des Si(CH 3 ) 4 (700°C, Gasphase) identifiziert und das thermische Verhalten charakteristischer Carbosilane untersucht.1 Die 39 beobachteten Verbindungen (Siedebereich bis 200°C/760 Torr) bestehen zu 90% aus Substanzen mit SiCSi‐Gerüsten, wobei die 1,3,5‐Trisilacyclohexane und das 1,3,5,7‐Tetrasilaadamantan die häufigsten sind. Neben den 1,2‐Disilacyclobutanen werden besonders 1,3‐Disilacyclopentene identifiziert, die sich durch die Zahl der SiH‐Gruppen und die CH 3 ‐Gruppe an der C‐Doppelbindung unterscheiden. Ebenso werden die isomeren Verbindungen 1,1,3,3‐Tetramethyl‐4‐methylen‐1,3‐disilacyclopentan und 1,1,3,3‐Tetramethyl‐1,3‐disilacyclohexen gebildet. 2 [(CH 3 ) 2 SiCH 2 ] 2 (a) polymerisiert bei 320°C zu einer gummiartigen Substanz (ohne Gasentwicklung), die aus [(CH 3 ) 2 SiCH 2 ] 3 (b) zwischen 380–400°C entsteht. Aus (a) bilden sich bei 480°C [(CH 3 ) 2 SiCH 2 ] 3 , [(CH 3 ) 2 SiCH 2 ] 4 und 1,3,5,7‐Tetrasilaadamanten (c). Das 1,1,3,3‐Tetramethyl‐1,3‐disilacyclopenten (d) spaltet oberhalb 500°C, wobei als Hauptprodukte 1,1,3,3‐Tetramethyl‐1,3‐disilacyclopentan (e) undaußerdem C 2 H 5 Si(CH 3 ) 2 CH 2 Si(CH 3 ) 3 (g) und (c) gebildet werden.