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Zur Bildung von Additionsverbindungen zwischen SiCl 4 HP(C 2 H 5 ) 2 und HSiCl 3 HP(C 2 H 5 ) 2
Author(s) -
Fritz G.,
Wiemers R.,
Protzer U.
Publication year - 1968
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19683630502
Subject(s) - chemistry , medicinal chemistry
In den Systemen SiCl 4 /HP(C 2 H 5 ) 2 und HSiCl 3 /HP(C 2 H 5 ) 2 ist jeweils nur eine Verbindung nachzuweisen; SiCl 4 · 2 HP(C 2 H 5 ) 2 (I) (Smp. −36°C) und HSiCl 3 · 2 HP(C 2 H 5 ) 2 (II) (Smp. −58°C). I und II sind in der Gasphase vollständig in die Komponenten zerfallen. Es werden die Schmelzdiagramme angegeben.