Bildung siliciumorganischer Substanzen. XIII. Die Spaltung des [(CH 3 ) 3 Si] 2 C  CH 2 mit Halogenen und Halogenwasserstoffen

[(CH 3 ) 3 Si] 2 CCH 2 setzt sich mit Cl 2 und Br 2 ohne Lösungsmittel bei niedriger Temperatur unter Bildung von (CH 3 ) 3 SiX und (CH 3 ) 3 SiCXCH 2 um (X Cl, Br). Mit HBr und HJ erfolgt ebenfalls eine Spaltung der SiC‐Bindung an dem C‐Atom mit der Doppelbindung zu (CH 3 ) 3 SiX und (CH 3 ) 3 SiCHCH 2 . Die Spaltprodukte wurden durch chemische Analyse, IR‐Spektren und Gaschromatogramme identifiziert. Diese Reaktionen sind auf die Stellung der (>CCH 2 )‐Gruppe zwischen den beiden Si‐Atomen zurückzuführen. Vinylverbindungen des Typs R 3 SiCHCH 2 sind diesen Umsetzungen nicht zugänglich. Das Verhalten des [(CH 3 ) 3 Si] 2 CCH 2 läßt sich durch eine Wechselwirkung zwischen der CC‐Doppelbindung und den benachbarten Si‐Atomen (3d‐Niveaus) erklären.