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Reaktionen der Phenylsilane mit Halogen und Halogenwasserstoffen
Author(s) -
Fritz G.,
Kummer D.
Publication year - 1961
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19613080113
Subject(s) - phenylsilane , chemistry , medicinal chemistry , polymer chemistry , catalysis , organic chemistry
HBr, HCl, HF spalten, wie auch HJ 1 ), das C 6 H 5 SiH 3 (ohne Lösungsmittel, ohne Katalysator, niedrige Temp.) nach C 6 H 5 SiH 3 + HX → C 6 H 6 + SiH 3 X. HCl reagiert nur langsam. In Gegenwart von Cu‐Salzen fluoriert HF die SiH‐Gruppen, ohne zu spalten. In SiH‐substituierten Derivaten des C 6 H 5 SiH 3 erfolgt die Spaltung in Benzol und das Siliciumhalogenid um so langsamer, je negativer die Substituenten am Silicium werden, und bleibt schließlich ganz aus. Die sich danach ergebende Reihe der Phenylsilane entspricht der Anordnung nach steigender Elektronegativität. Die Einführung negativer Substituenten am Silicium erhöht die Beständigkeit der Si‐Phenyl‐Gruppe. Dies wird durch Reaktionen mit Chlor, Brom und Jod bestätigt. Mit Chlor und Brom werden die SiH‐Gruppen leicht vollständig halogeniert, so daß dann die Spaltung ausbleibt. Die Jodierung erfolgt schwerer, so daß der gebildete HJ eine Spaltung in Benzol und ein SiH‐haltiges Siliciumjodid bewirkt.

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