Reaktionen der Phenylsilane mit Halogen und Halogenwasserstoffen

HBr, HCl, HF spalten, wie auch HJ 1 ), das C 6 H 5 SiH 3 (ohne Lösungsmittel, ohne Katalysator, niedrige Temp.) nach C 6 H 5 SiH 3 + HX → C 6 H 6 + SiH 3 X. HCl reagiert nur langsam. In Gegenwart von Cu‐Salzen fluoriert HF die SiH‐Gruppen, ohne zu spalten. In SiH‐substituierten Derivaten des C 6 H 5 SiH 3 erfolgt die Spaltung in Benzol und das Siliciumhalogenid um so langsamer, je negativer die Substituenten am Silicium werden, und bleibt schließlich ganz aus. Die sich danach ergebende Reihe der Phenylsilane entspricht der Anordnung nach steigender Elektronegativität. Die Einführung negativer Substituenten am Silicium erhöht die Beständigkeit der Si‐Phenyl‐Gruppe. Dies wird durch Reaktionen mit Chlor, Brom und Jod bestätigt. Mit Chlor und Brom werden die SiH‐Gruppen leicht vollständig halogeniert, so daß dann die Spaltung ausbleibt. Die Jodierung erfolgt schwerer, so daß der gebildete HJ eine Spaltung in Benzol und ein SiH‐haltiges Siliciumjodid bewirkt.